Super-Finish Poliermittel "Nano Ceri"

  • Wie ich heute erfahren habe (danke Thomas) hat Pieplow und Brandt seit der Optatec Messe ein neues Poliermittel namens "Nano Ceri" im Programm.


    Laut Aussage von Pieplow wird dies ausschließlich für Optik zur Halbleiterherstellung verwendet, wo Oberflächen mit ultrageringer Rauhigkeit gefordert sind (Rq=0,2–0,3nm).


    Kann jemand etwas zu Chipbelichtungsoptik sagen und warum dort solch hohe Anforderungen an die Glätte herrschen? Irgendwelche Grundlagen links zu dem Thema?


    p.s.
    Falls jemand auf die Idee kommen sollte, seinem Spiegel damit das letzte finish geben zu wollen, das Nano Ceri kommt als fertig angerührte 2%-ige Suspension (also sehr dünnflüssig) und kostet 120,-Euro netto je Liter! (incl. 16% MWST, Verpackung & Versand landet man somit bei ca. 165,- Europas/l) Das ist teurer als Gold. Ich glaube außerdem kaum, dass es was für uns bringt, was meint ihr?

  • Hey Stathis,


    ich denke, dass eine solche Suspension erst dann etwas bringt, wenn die Oberflächenrauhigkeit den größten Fehler bei der Abweichung von der Parabel darstellt. Ich kann mir kaum vorstellen, dass es ein Spiegelschleifer schafft einen Spiegel auf lambda/100 oder besser (das wäre ja die Größenordnung) herzustellen. Außer mir natürlich [;)].
    Abgesehen davon, bezweifle ich sehr, dass sich eine entsprechende Qualität visuell oder fotographisch bemerkbar machen würde.


    Eine weitere Frage ist, ob eine Oberfläche von dieser Genauigkeit überhaupt erhalten bleibt, wenn man so ein Teil verspiegelt (egal, ob Alu oder Silber).


    Interessant find ich das schon. Aber wenn man eine sichere Antwort haben möchte, dann muss es wohl irgendjemand mal ausprobieren. Ich werde mit diesem Zeug erstmal nicht experimentieren, aber vielleicht belehren mich die Erfahrungen anderer Spiegelschleifer eines anderen.


    Ich denke, bevor man versucht die Oberfläche um 2 Größenordnungen zu verbessern, sollte man in der Amateur-Astronomie eher solche Dinge wie adaptive bzw. aktive Optik in den Angriff nehmen. Und das ist noch ein weiter Weg.


    Viele Grüße
    Jonathan

  • Hi Stathis,


    > Kann jemand etwas zu Chipbelichtungsoptik sagen und warum dort solch hohe Anforderungen an die Glätte herrschen?


    Die Chipbelichter arbeiten inzwischen mit extrem kurzwelligem UV-Licht (ungefähr 200nm), weil die zu erzeugenden Strukturen irgendwo (grob geschätzt) im 100nm Bereich liegen. Da braucht man schon ultrapräzise Optik.


    Gruss
    Michael

  • Hallo Stathis,
    vermutlich ist das neue Poliermittel für die 13nm-Technologie vorgesehen.
    Es wird an Spiegeloptiken gearbeitet, die für die Maskenbelichtung bei 13 nm Wellenlänge noch beugungsbegrenzt[:0] abbilden - das sind übrigens Mehrspiegel- Offset-Systeme, um ein großes beugungsbegrenztes Feld mit praktisch 0 Verzeichnung zu bekommen[:0][:0]!
    Dagegen sind selbst unsere besten Amateur-Teleskopspiegel absoluter Kinderkram[:I].


    Heutiger Stand der Technik in der UV-Lithografie ist routinemäßig ca. 190 nm, teils schon ca. 150 nm (sehr schwierig, weil die meisten Gläser bei dieser Wellenlänge nicht mehr transparent sind). Die Wellenlängen ergeben sich bisher aus den Emissionslinien des Quecksilbers, weil da auf einfache Weise sehr helle Lichtquellen zur Verfügung stehen.
    Auch die Litho-Optiken für 190 nm sind schon Wunderwerke der Präzisionsoptik, allerdings noch mit Linsen aufgebaut. Ein Arbeitskollege von mir hat mal bei Zeiss Oberkochen gearbeitet und die dortige Fertigung kennen gelernt - die korrigierten zumindest um 2001 tatsächlich noch bestimmte asphärische Oberflächen der Optik per Hand mit Pechhaut.


    Bei 13 nm muß man ganz anders an die Sache herangehen, und es wird wohl noch etwas dauern, bis diese Technologie produktionsreif ist.


    Noch viel kürzere Wellenlängen machen keinen Sinn mehr, weil die kleinste mögliche Strukturgröße eine Atomlage ist[:0]! Bereits bei deutlich höheren Strukturgrößen beginnen die Materialien sich anders zu verhalten als im makroskopischen Maßstab - da haben die Forscher noch reichlich Arbeit.


    Ich schau mal, ob ich gelegentlich ein paar Weblinks zum Thema finde.
    Eins kann man wohl jetzt schon hoffen: Wenn die 13nm-Optik beherrschbar ist, gibt es ein neues UV-Weltraumteleskop.


    Gruß,
    Martin

  • Die Beiträge sind aus 1999 und 2000/01, also Schnee von Gestern.


    Da man heutzutage per harter Röntgenstrahlung oder per Zyklotron belichtet, sind eben auch entsprechende Anforderungen an die Oberflächen gegeben. Sonst könnten wir dieses Forum ( mangels Chip ) garnicht sehen.


    Da wird dann auch nicht beschichtet, sondern diffundiert. Die neuen Chips haben z.T. Sperrschichtdicken von 10 und weniger Atomschichten. Da kann man sich natürlich keine noch so kleine Rauhigkeit leisten, ein "Hubbel" von 4-5 Atomdicken zöge einen defekten Chip nach sich.


    Ein Lichtquant tät's vielleicht garnicht merken ....


    E.Z.

  • Also vielleicht steh ich etwas auf dem Schlauch, ich dachte es geht um die Optik - Sperrschicht ist doch auf dem Chip?! "Diffundieren statt Beschichten"? Alles Bahnhof.


    Erklär mich! ;)

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