<blockquote id="quote"><font size="1" face="Verdana, Arial, Helvetica" id="quote">Zitat:<hr height="1" noshade id="quote"><i>Original erstellt von: Andreas_D</i>
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fuer sehr duenne Schichten bis hin zu sub-monolayer ist die Ellipsometry der Industriestandard. Sie beruht auf der Analyse der Polarisation einer im stumpfen Winkel reflektierten Lichtwelle:
<hr height="1" noshade id="quote"></blockquote id="quote"></font id="quote">
Ja, ich weiss. Die möchte ich in diesem speziellen Fall jedoch nicht verwenden, da die Ergebnisse möglichst direkt separat eindeutig bestimmt sein müssen und sogar juristisch selbst von Winkeladvokaten unangreifbar sein sollten.
<blockquote id="quote"><font size="1" face="Verdana, Arial, Helvetica" id="quote">Zitat:<hr height="1" noshade id="quote"><i>Original erstellt von: mkoch</i>
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Um die Schichtdicke interferometrisch zu vermessen muss sich auf dem gleichen Substrat auch ein Bereich befinden der nicht beschichtet wurde. An der Grenzlinie haben wir dann eine kleine Stufe. Auf das gesamte Substrat wird eine dünne Alu-Schicht aufgedampft, ... Dann wird die Oberfläche per Fizeau-Interferometer vermessen
<hr height="1" noshade id="quote"></blockquote id="quote"></font id="quote">
OK, danke. Dann hatte ich das doch richtig verstanden.
Für Eure Zwecke (quasi als Mittel zum Meßzweck) sollte das funktionieren.
Das wäre für meine Zwecke dann evtl. etwas zu wenig präzise.